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品名：光学满天星刻字膜 光学人形纹满天星刻字膜 光学编织纹满天星刻字膜
规格:1*100M/卷、50CM*25M/卷、1.37*100M/卷
品牌：CS/AS
厚度：0.2MM
表面效果：人形纹满天星、碎玻璃纹满天星、七彩镭射满天星、石头纹满天星、树枝纹满天星、草苺纹满天星、感光满天星、光学满天星、3D圆圈满天星、拉丝纹满天星、方格纹满天星、马赛克满天星等30几种纹络的满天星效果任君选择。
产品信息
主要成分：聚氨酯
厚度(mm)：0.34~0.35
颜色：无色透明
厚度偏差(mm)：±0.005
幅宽（mm）:0~1500
热熔胶层硬度（邵氏A）：65
软化点（℃）：90
离型基材：80G格拉辛双硅纸
压力（Mpa）：0.35~0.4
压烫时间（s）：8~25
春夏压烫温度（℃）：145
秋冬压烫温度（℃）：155
耐黄变：UV>4级，户外
开放时间（s）：8~20
拉伸强度（Mpa）：0.32~0.45
剥离强度（KN/m）：62.5
耐曲折：弹性强，可拉伸可回缩
持久强度（Mpa）：0.32~0.48
粘接材质
尼龙布、化纤布、涤纶布
莱卡布、牛仔布、针织布
涂层布、氨纶布、水洗布
佳吉布、鸟眼布、棉纺布
TC布、植绒、超纤
皮革、网布（三明治）
TPU、PU、PP
耐温性：170度无变化
工艺：雕刻再热转印
加工机器：激光机、刻字机、啤机
特点：七彩效果强，镭射幻彩随光源不断变化，耐折、耐磨、耐干湿磨、耐机洗、牢固度好，色泽柔和美观；品质稳定
原理：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是 吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射；膜层之间的相互渗透形成扩散界面；由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性；膜层具有复杂的时间效应。
使用方法:将光学满天星刻字膜放置于刻字机或激光切割上，进行切割，再将多余的废料排掉，最终反向将满天星刻字膜热烫在纺织品上或鞋材上，完成。
1.用刻字机先切割成需要的形状，撕离图案以外的胶膜，切割深度以割入底层胶片10—30 UM、切割的压力160-170GF为佳。
2.撕下保护膜，用烫画机直接转烫在承印物上。
3.转烫温度一般在130摄氏度到155摄氏度，时间为10秒到20秒，压力20—30磅（根据不同材质及要求来定）。
4.可热/冷撕。将表面胶片撕离即可。
应用范围：纺织品、服装、鞋材、运动号码、标志、广告、海报、公司logo等
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